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スクリーンSU-3200 300mmウェハークリーナー

最大12個のプロセスチャンバー、800WPHの処理能力。22nm以下のプロセスに対応するAPAC雰囲気制御システムを搭載。32nmから7nmノードに加え、SiCおよびGaNにも対応。

SCREEN SU-3200 300mm Wafer Cleaner 機器画像
構成レビュー モデルと搭載オプション
新品/中古品 プロジェクトの利用状況によります
グローバルデリバリー 目的地別評価
技術RFQ パッケージとプロセスのマッチング

の スクリーン SU-3200 シングルウェーハ洗浄システムは、300mmウェーハの湿式処理を優れたスループットと堅牢なプロセス性能で実現します。シングルウェーハ処理により各基板が分離されるため、バッチ洗浄ワークフローでよく発生する相互汚染を回避できます。

微粒子、有機物、金属残留物を除去しながら、繊細なパターンや薄膜を保護します。柔軟なレシピ互換性により、FEOL、BEOL、および高度なパッケージング工程に対応します。システムは連続運転で安定した稼働時間を維持し、欠陥レベルを低減し、ウェハ製造ラインの安定した生産量をサポートします。

SCREEN SU-3200 300mm single wafer cleaning system for semiconductor manufacturing

スクリーンSU-3200の技術情報

パラメータ説明
メーカーSCREEN半導体ソリューション
モデルSU-3200
機器の種類シングルウェハー湿式洗浄システム
ウェハーサイズ300mm
処理方法単一ウェハーの洗浄、すすぎ、乾燥
最大チャンバー構成構成によっては最大12個の処理室
最大スループットプロセス条件にもよるが、最大で毎時800枚のウェハーを処理可能。
ウェハーハンドリングウェハーの自動ロード、搬送、処理、およびアンロード
化学薬品供給構成依存型化学物質送達システム
プロセス制御プログラム可能な洗浄、すすぎ、薬品供給、乾燥レシピ
主な用途高度なロジック、メモリ、エッチング後、ストリップ後、および関連するウェーハ洗浄プロセス

正確な仕様は、機械の製造年、ハードウェア構成、チャンバー数、化学モジュール、ソフトウェアバージョン、工場オプション、および以前の用途によって異なる場合があります。

購入前に、機器の銘板、構成リスト、設備要件、および現在の稼働状況を確認する必要があります。