TEL MARK 8 คือแพลตฟอร์มการพิมพ์หิน (lithography) ที่ได้รับการพิสูจน์แล้วจาก TEL ซึ่งรวมความสามารถในการเคลือบและการพัฒนาสำหรับเวิร์กโฟลว์โฟโตเรซิสต์บนเวเฟอร์ขนาด 200 มม. การเคลือบโฟโตเรซิสต์ การอบด้วยความร้อน และการพัฒนาหลังการฉายแสงจะดำเนินการต่อเนื่องกันในขั้นตอนเดียว เพื่อสร้างลวดลายที่ระดับกระบวนการผลิตที่พัฒนาแล้ว
การออกแบบเวิร์กสเตชั่นแบบโมดูลาร์ช่วยให้มีพื้นที่เหลือเฟือสำหรับการปรับแต่งสูตร การควบคุมความเร็วในการหมุนและอุณหภูมิที่แม่นยำช่วยรักษาความหนาของฟิล์มโฟโตเรซิสต์ให้คงที่ ในขณะที่ฟังก์ชันการกำจัดขอบแบบบูรณาการช่วยลดการเกิดข้อบกพร่องตามขอบเวเฟอร์
โรงงานผลิตชิปจำนวนมากใช้แพลตฟอร์มนี้เพื่อรักษาระดับการผลิตประจำวันให้คงที่ โครงสร้างทางกลที่ได้รับการพัฒนามาอย่างดีช่วยลดเวลาหยุดทำงานโดยไม่คาดคิด ทำให้เป็นตัวเลือกที่แข็งแกร่งเมื่อต้องการเพิ่มกำลังการผลิตด้านลิโทกราฟี
ข้อมูลจำเพาะหลักของ TEL MARK 8
| ผู้ผลิต | บริษัท โตเกียว อิเล็กตรอน จำกัด |
|---|---|
| ยี่ห้อ | โทรศัพท์ |
| แบบอย่าง | มาร์ค 8 |
| ประเภทอุปกรณ์ | ระบบเคลือบเวเฟอร์และระบบติดตามการพัฒนา |
| ขนาดเวเฟอร์ที่รองรับ | ตามรายการสินค้าที่มีอยู่ ระบุว่าเป็นเวเฟอร์ขนาด 6 นิ้วและ 8 นิ้ว |
| การกำหนดค่ากระบวนการที่ระบุไว้ | 2C+2D; ต้องตรวจสอบโมดูลที่ติดตั้งจริงอีกครั้ง |
| กระบวนการหลัก | การเคลือบและการพัฒนาสารต้านทานแสง |
| เงื่อนไข | ใช้แล้ว อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ |
| ความพร้อมใช้งาน | ขึ้นอยู่กับสินค้าในสต็อกปัจจุบันและการยืนยันการกำหนดค่า |
