TEL社の実績あるリソグラフィプラットフォームであるTEL MARK 8は、200mmウェハのフォトレジストワークフロー向けに、塗布機能と現像機能を統合しています。フォトレジスト塗布、熱ベーキング、露光後現像を連続した一連の工程で実行することで、成熟したプロセスノードでのパターニングを実現します。
モジュール式のワークステーションレイアウトにより、レシピの調整に十分なスペースが確保されます。精密な回転速度と温度制御によりフォトレジスト膜厚を一定に保ち、統合されたエッジ除去機能によりウェーハ端に沿った欠陥の発生を抑制します。
多くの半導体製造工場が、安定した日々の生産量を維持するためにこのプラットフォームに依存している。実績のある機械構造により、予期せぬダウンタイムが抑制されるため、リソグラフィの生産能力を増強する際には最適な選択肢となる。
TEL MARK 8の主な仕様
| メーカー | 東京エレクトロン株式会社 |
|---|---|
| ブランド | 電話 |
| モデル | マーク8 |
| 機器の種類 | ウェハーコーターおよび現像トラックシステム |
| 対応ウェハサイズ | 入手可能なリストによると、6インチと8インチのウェハー |
| リストされたプロセス構成 | 2C+2D; 実際に設置されたモジュールは確認が必要です |
| 主要プロセス | フォトレジストの塗布と現像 |
| 状態 | 使用済み 半導体製造装置 |
| 可用性 | 現在の在庫状況および構成確認が必要です。 |
