TRANG CHỦ > Các sản phẩm > Thiết bị bán dẫn hậu kỳ > Thiết bị xử lý wafer > Máy làm sạch wafer >

Thiết bị làm sạch wafer SEMES BLUEICE PRIME 300mm

Máy làm sạch wafer đơn 300mm hoàn toàn tự động. Quy trình axit photphoric nhiệt độ cao, loại bỏ các hạt có kích thước 19nm. Mâm cặp nhiệt độ cao độc quyền giúp gia nhiệt đồng đều, giảm lỗi hơn 90%.

SEMES BLUEICE PRIME 300mm Wafer Cleaning Equipment HÌNH ẢNH THIẾT BỊ
Đánh giá cấu hình Mẫu mã và các tùy chọn đã cài đặt
Nguồn cung mới/đã qua sử dụng Tùy thuộc vào tình trạng sẵn có của dự án
Giao hàng toàn cầu Đánh giá dựa trên điểm đến
Yêu cầu báo giá kỹ thuật (Technical RFQ) Phù hợp gói hàng và quy trình

Hệ thống làm sạch wafer SEMES BLUEICE PRIME 300mm mang lại độ đồng nhất nhiệt độ vượt trội và khả năng kiểm soát hóa chất chính xác, đặc biệt hiệu quả trong các hoạt động khắc và tẩy bằng axit photphoric ở nhiệt độ cao. Thiết kế mâm cặp độc đáo giúp giảm thiểu sự sai lệch nhiệt độ, loại bỏ hiệu quả các chất gây ô nhiễm trên bề mặt đồng thời bảo vệ các mẫu wafer mỏng manh khỏi bị hư hại.

Hệ thống hỗ trợ điều chỉnh công thức linh hoạt cho nhiều quy trình xử lý ướt khác nhau và duy trì tỷ lệ lỗi cực thấp, ngay cả trong quá trình sản xuất khối lượng lớn, kéo dài. Cho dù bạn đang nâng cấp thiết bị xử lý ướt hiện có hay mở rộng năng lực sản xuất, hệ thống này là lựa chọn đáng tin cậy để nâng cao năng suất wafer.

Hãy liên hệ với chúng tôi ngay hôm nay để thảo luận về nhu cầu vệ sinh ướt của bạn và nhận báo giá cạnh tranh.

SEMES BLUEICE PRIME Wafer Cleaner | Advanced 300mm Semiconductor Cleaning System

Thông số kỹ thuật SEMES BLUEICE PRIME

Tham sốSự miêu tả
Loại thiết bịHệ thống làm sạch wafer đơn
Nhà sản xuấtSEMES
Người mẫuBLUEICE PRIME
Kích thước wafer300mm
Loại quy trìnhLàm sạch tấm bán dẫn ướt
Ứng dụng chínhSản xuất chất bán dẫn logic và bộ nhớ
Công nghệ làm sạchLàm sạch bằng axit photphoric ở nhiệt độ cao
Mục tiêuCác hạt, cặn bẩn, ô nhiễm bề mặt