TEL MARK 8, platform litografi yang terbukti daripada TEL, menggabungkan keupayaan salutan dan pembangunan untuk aliran kerja fotoresis wafer 200mm. Salutan fotoresis, penaik haba dan pembangunan pasca pendedahan dijalankan dalam satu jujukan berterusan untuk menjalankan pencorakan pada nod proses matang.
Susun atur stesen kerja modularnya membuka ruang yang luas untuk penalaan resipi. Kelajuan putaran dan kawalan suhu yang tepat memastikan ketebalan filem fotoresis stabil, manakala fungsi penyingkiran tepi bersepadu mengurangkan pembentukan kecacatan di sepanjang tepi wafer.
Banyak fabrikasi bergantung pada platform ini untuk mengekalkan daya pemprosesan harian yang konsisten. Seni bina mekanikal yang mantap dapat mengurangkan masa henti yang tidak dirancang, menjadikannya pilihan yang kukuh ketika meningkatkan kapasiti litografi.
TEL MARK 8 Spesifikasi Utama
| Pengilang | Tokyo Electron Limited |
|---|---|
| Jenama | TEL |
| Model | MARKAH 8 |
| Jenis Peralatan | Sistem Pelapis Wafer dan Trek Pembangun |
| Saiz Wafer yang Disokong | Wafer 6 inci dan 8 inci, mengikut senarai yang tersedia |
| Konfigurasi Proses Tersenarai | 2C+2D; modul sebenar yang dipasang mesti disahkan |
| Proses Utama | Salutan fotoresis dan pembangunan |
| Keadaan | Digunakan peralatan semikonduktor |
| Ketersediaan | Tertakluk kepada stok semasa dan pengesahan konfigurasi |
