RUMAH > Produk > Peralatan Fabrik Wafer Bahagian Hadapan > Peralatan Pemeriksaan Metrologi >

Ketebalan Filem NanoSpec AFT 2100 Nanometrik

Sistem pengukuran ketebalan filem optik bukan sentuh Nanometrics NanoSpec AFT 2100 yang digunakan untuk filem dielektrik, rintangan dan polisilikon lutsinar.

Nanometrics NanoSpec AFT 2100 Film Thickness IMEJ PERALATAN
Semakan Konfigurasi Model dan pilihan yang dipasang
Bekalan Baru / Terpakai Tertakluk kepada ketersediaan projek
Penghantaran Global Penilaian berasaskan destinasi
RFQ Teknikal Pemadanan pakej dan proses

Nanometrics NanoSpec AFT 2100 ialah peranti yang boleh dipercayai sistem metrologi ketebalan filem tanpa sentuh untuk pemeriksaan wafer semikonduktor. Menggunakan spektro-reflektometri, ia mengukur lapisan nipis lutsinar seperti oksida, nitrida dan fotoresis, memberikan bacaan pantas untuk rutin pemantauan proses.

Dilengkapi dengan objektif mikroskop boleh laras dan saiz titik pengukuran yang fleksibel, ia memberikan data ketebalan yang tepat tanpa kerosakan wafer. Sistem ini mengesahkan keseragaman filem merentasi substrat dan menjana laporan pengukuran yang boleh diulang, sesuai untuk kawalan kualiti harian bilik bersih.

Padat dan teguh, sistem ini memerlukan latihan minimum untuk pengendali dan memastikan kos penyelenggaraan rendah. Ia disepadukan dengan lancar ke dalam aliran kerja bilik bersih sedia ada untuk mengekalkan kawalan filem nipis yang ketat dan melindungi hasil produk anda.

Nanometrics NanoSpec AFT 2100 film thickness measurement system

Spesifikasi Utama Nanometrik AFT 2100

PengilangNanometrik
Keluarga ProdukNanoSpec
ModelSelepas 2100
Jenis PeralatanSistem Pengukuran Ketebalan Filem Nipis Optik
Saiz Wafer Tersenarai150 mm / 6 inci
Kaedah PengukuranPantulan spektrum bukan sentuhan dan gangguan optik
Julat Panjang Gelombang yang Diterbitkan360–760 nm
Julat Ketebalan yang DiterbitkanKurang daripada 100 Å hingga lebih kurang 50,000 Å
Kebolehulangan yang DiterbitkanKira-kira ±2% hingga ±5%, bergantung pada keadaan filem dan pengukuran
Kanta Objektif5×, 10× dan 50×
Saiz Titik Pengukuran yang DiterbitkanKira-kira 50 µm, 25 µm dan 5 µm, bergantung pada kanta objektif
Keperluan FilemFilem hendaklah lutsinar dalam julat pengukuran dan mempunyai sifat optik yang diketahui
KeadaanPeralatan semikonduktor terpakai
KetersediaanTertakluk kepada stok semasa, pemeriksaan dan pengesahan konfigurasi

Nanometrics AFT 2100 microscope and sample stage