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Nanometrics NanoSpec AFT 2100 薄膜厚度

使用Nanometrics NanoSpec AFT 2100非接觸式光學薄膜厚度測量系統,用於透明介電薄膜、光刻膠薄膜和多晶矽薄膜。

Nanometrics NanoSpec AFT 2100 Film Thickness 設備圖片
配置審查 型號和安裝選項
全新/二手供應 視項目情況而定
全球配送 基於目的地的評估
技術詢價 包裝和流程匹配

Nanometrics NanoSpec AFT 2100 是一款可靠的 非接觸式薄膜厚度計量系統 用於半導體晶圓檢測。 光譜反射法它可測量氧化物、氮化物和光阻等透明薄層,並能快速讀取數據,適用於常規測量。 流程監控.

該系統配備可調節顯微物鏡和靈活的測量光斑尺寸,可在不損傷晶圓的情況下提供精確的厚度數據。此系統可驗證薄膜在不同基板上的均勻性,並產生可重複的測量報告,是無塵室日常品質控制的理想選擇。

該系統結構緊湊、堅固耐用,操作人員只需接受極少的培訓,維護成本也極低。它可無縫整合到現有的無塵室工作流程中,從而實現嚴格的薄膜控制,保障產品良率。

Nanometrics NanoSpec AFT 2100 film thickness measurement system

Nanometrics AFT 2100 主規格

製造商奈米計量學
產品系列奈米光譜
模型AFT 2100
設備類型光學薄膜厚度測量系統
晶圓尺寸150 毫米 / 6 英寸
測量方法非接觸式光譜反射率和光學干涉
已公佈的波長範圍360–760 奈米
已公佈的厚度範圍小於 100 Å 至約 50,000 Å
已發表的可重複性誤差約為±2%至±5%,取決於膠片和測量條件。
物鏡5倍、10倍和50倍
已公佈的測量點尺寸依物鏡的不同,尺寸分別約為 50 µm、25 µm 和 5 µm。
影片要求薄膜在測量範圍內應透明,並具有已知的光學特性。
狀態二手半導體設備
可用性視當前庫存、檢驗和配置確認情況而定

Nanometrics AFT 2100 microscope and sample stage