เครื่องฉายภาพ Canon FPA-5500iZ+ นำเสนอเทคโนโลยีการพิมพ์หินด้วยแสง 365 นาโนเมตร (i-line lithography) สำหรับกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่ต้องการการถ่ายทอดลวดลายที่สม่ำเสมอทั่วพื้นผิวเวเฟอร์ ระบบเลนส์ลดขนาด 4:1 ฉายลวดลายมาสก์ลงบนเวเฟอร์ โดยมีพื้นที่การฉายแสงสูงสุด 26 × 33 มม. แพลตฟอร์มนี้รองรับการประมวลผลเวเฟอร์ทั้งขนาด 200 มม. และ 300 มม. ขึ้นอยู่กับการกำหนดค่าที่ติดตั้ง
การจัดวางภาพไม่ได้ขึ้นอยู่กับความละเอียดทางแสงเพียงอย่างเดียว ประสิทธิภาพการจัดแนว การแก้ไขความผิดเพี้ยนจากการเปิดรับแสง และรูรับแสงเชิงตัวเลขที่ปรับได้ ล้วนส่งผลต่อความแม่นยำของลวดลายในแต่ละฟิลด์ คุณสมบัติการป้องกันมาสก์ของระบบช่วยลดความเสี่ยงต่อความเสียหายของแผ่นมาสก์และข้อบกพร่องที่เกิดจากอนุภาค ในขณะที่การจัดการเวเฟอร์ส่งผลต่อปริมาณงานและสภาพของสารไวแสงในระหว่างรอบการเปิดรับแสงซ้ำๆ
การใช้งานอาจรวมถึงอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำกำลังสูง เซ็นเซอร์ภาพ CMOS และ MEMS ซึ่งเทคโนโลยีการพิมพ์แบบ i-line ยังคงมีความสำคัญต่อกระบวนการผลิตที่ใช้กันอยู่ สำหรับสายการผลิตที่กำลังประเมิน FPA-5500iZ+ มือสอง การกำหนดค่าขนาดเวเฟอร์ ประสิทธิภาพการวางซ้อน สภาพทางแสง และประวัติการซ่อมบำรุง เป็นจุดสำคัญที่ต้องตรวจสอบก่อนซื้อ
