ในฐานะที่เป็นระบบการพิมพ์หินประสิทธิภาพสูง TEL MARK Vz จึงถูกรวมเข้าไว้ด้วยกัน สารเคลือบและสารพัฒนา เครื่องนี้รองรับการประมวลผลโฟโตเรซิสต์บนเวเฟอร์ขนาด 200 มม. สำหรับสายการผลิตจำนวนมาก โดยเชื่อมโยงการเตรียมพื้นผิวด้วย HMDS การเคลือบเรซิสต์แบบหมุน การอบ และการพัฒนาลวดลายเข้าด้วยกันอย่างราบรื่นภายในแพลตฟอร์มอัตโนมัติเดียว
ระบบการจ่ายของเหลวและการควบคุมอุณหภูมิที่ได้รับการปรับให้เหมาะสม ช่วยให้ควบคุมอุณหภูมิได้อย่างแม่นยำ ความสม่ำเสมอของโฟโตเรซิสต์ ทั่วทั้งพื้นผิวเวเฟอร์ การกำจัดขอบนูนขั้นสูงและการแยกสภาพแวดล้อมทำงานร่วมกันเพื่อยับยั้งการเกิดอนุภาคและลดข้อบกพร่องในการสร้างลวดลาย
ออกแบบมาเพื่อการใช้งานต่อเนื่องยาวนาน รางลำเลียงนี้ให้ความสมดุลระหว่างปริมาณงานสูงกับการบำรุงรักษาเชิงป้องกันที่ง่าย จึงนิยมใช้กันอย่างแพร่หลายในโรงงานผลิตอุปกรณ์ไฟฟ้าและเซมิคอนดักเตอร์แบบแยกชิ้น เพื่อรักษาเสถียรภาพของผลผลิตการพิมพ์หิน
ข้อมูลจำเพาะหลักของ TEL MARK VZ
| ผู้ผลิต | บริษัท โตเกียว อิเล็กตรอน จำกัด |
|---|---|
| ยี่ห้อ | โทรศัพท์ |
| แบบอย่าง | มาร์ค วีซี |
| ประเภทอุปกรณ์ | ระบบเคลือบเวเฟอร์และระบบติดตามการพัฒนา |
| ขนาดเวเฟอร์ที่รองรับ | เวเฟอร์ขนาด 6 นิ้ว ตามข้อมูลที่มีอยู่ |
| การกำหนดค่ากระบวนการที่ระบุไว้ | 2C และ 2D; ต้องตรวจสอบโมดูลที่ติดตั้งจริงอีกครั้ง |
| กระบวนการหลัก | การเคลือบและการพัฒนาสารต้านทานแสง |
| เงื่อนไข | อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์มือสอง |
| ความพร้อมใช้งาน | ขึ้นอยู่กับสินค้าในสต็อกปัจจุบันและการยืนยันการกำหนดค่า |
