DNS SKW80 整合式光刻機是成熟晶圓製造製程常用的光刻軌道工具。 塗佈和顯影系統 簡化了 6/8 英吋晶圓的完整光阻處理流程。它統一了塗覆、烘烤和顯影工作流程，提供一致的曝光前和曝光後處理，從而實現穩定的光刻圖案化。
採用緊湊的單體架構和靈活的設計 1C+2D製程配置該系統支援高精度光阻旋塗、均勻成膜和精確顯影。配備可靠的六甲基二矽氮烷（HMDS）處理和溫度控制模組，可消除塗層缺陷和圖案畸變，確保晶圓內優異的均勻性。
其流線型設計減少了不必要的停機時間，簡化了日常維護。此軌道可無縫整合到現有的無塵室生產線中，從而保持光刻產量穩定，並降低晶圓批次間的差異。
DNS SKW80 主要規格
| 製造商 | DNS |
|---|---|
| 模型 | SKW80 |
| 設備類型 | 晶圓塗覆機和顯影機軌道系統 |
| 支援的晶圓尺寸 | 根據現有清單，有 6 英吋和 8 英吋的晶圓。 |
| 列出的製程配置 | 1C+2D、2C 或 2D；必須確認實際安裝的模組。 |
| 初級過程 | 光阻塗覆及顯影 |
| 狀態 | 二手半導體設備 |
| 可用性 | 以當前庫存和配置確認為準 |
主要設備特性
專為 150 毫米和 200 毫米晶圓加工而設計
適用於光阻塗覆及顯影步驟
現有清單參考塗層和開發模組組合
適用於半導體光刻製程線
實際的熱力、傳熱和化學品供應配置可能有所不同
