ASML XT 760F リソグラフィー装置

ASML XT 760Fリソグラフィシステムは、高度な投影光学系と二段式設計を採用し、200mmおよび300mmシリコン基板の両方において、高い重ね合わせ精度と安定したイメージング性能を実現します。オートフォーカス、ウェーハ形状補正、柔軟な照明モードなどの機能を統合することで、ウェーハ全体にわたるクリティカルディメンション（CD）の均一性を確保します。

この装置は、ウェハの反りやレチクルの歪みを補正することで、連続露光工程におけるパターンずれやエッジ欠陥を最小限に抑えます。高い光透過率により安定した生産性を維持し、広いプロセスウィンドウを提供するため、大量生産に最適な選択肢となります。

主要技術パラメータ

注：ASMLはXT 760Fモデルに関する公式データシートを公開していません。記載されているすべてのパラメータは、商用および生産の参考として、ASML XTシリーズKrFリソグラフィプラットフォームの正式な工業規格仕様に基づいています。