Nanometrics NanoSpec AFT 2100は信頼性の高い 非接触式膜厚測定システム 半導体ウェーハ検査用。 分光反射率測定法酸化物、窒化物、フォトレジストなどの透明な薄膜を測定し、日常的な測定に迅速な読み取りを提供します。 プロセス監視.
調整可能な顕微鏡対物レンズと柔軟な測定スポットサイズを備え、ウェハーを損傷することなく正確な膜厚データを提供します。このシステムは、基板全体にわたる膜の均一性を検証し、再現性の高い測定レポートを生成するため、クリーンルームにおける日常的な品質管理に最適です。
コンパクトで堅牢なこのシステムは、オペレーターへのトレーニングを最小限に抑え、メンテナンスコストを低く抑えます。既存のクリーンルームワークフローにシームレスに統合でき、薄膜の厳密な制御を維持し、製品の歩留まりを保護します。
ナノメトリックス AFT 2100 主な仕様
| メーカー | ナノメートル |
|---|---|
| 製品ファミリー | ナノスペック |
| モデル | AFT 2100 |
| 機器の種類 | 光学式薄膜厚さ測定システム |
| 記載されているウェハーサイズ | 150 mm / 6 インチ |
| 測定方法 | 非接触分光反射率と光干渉 |
| 公開されている波長範囲 | 360～760 nm |
| 公表されている厚さ範囲 | 100Å未満～約50,000Å |
| 公表された再現性 | フィルムの種類や測定条件によって、約±2%～±5%の誤差が生じる。 |
| 対物レンズ | 5倍、10倍、50倍 |
| 公開されている測定スポットサイズ | 対物レンズによって異なるが、約50µm、25µm、5µm程度である。 |
| 映画鑑賞要件 | フィルムは測定範囲内で透明であり、既知の光学特性を有する必要がある。 |
| 状態 | 中古半導体製造装置 |
| 可用性 | 現在の在庫状況、検査および構成確認を条件とします。 |
