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SINTAIKE 非接触ウエハーラミネーター STK-7080

非接触式真空ウェハーマウンター。エッジ接触のみで、ローラーは使用しません。薄型ウェハーおよび化合物半導体(GaAs、GaN)に対応。4~8インチ、100~750μm。位置決め精度±0.5mm、60WPH以上。

SINTAIKE STK-7080 Non-contact Wafer Laminator 機器画像
構成レビュー モデルと搭載オプション
新品/中古品 プロジェクトの利用状況によります
グローバルデリバリー 目的地別評価
技術RFQ パッケージとプロセスのマッチング

STK-7080は、シリコン、炭化ケイ素(SiC)、ヒ化ガリウム(GaAs)、窒化ガリウム(GaN)基板を含む4~8インチウェハに対応した半自動真空ウェハマウンターです。ウェハ厚は100~750μmまで対応し、保護フィルムのラミネートにはローラーによる直接加圧ではなく真空を利用します。これにより、薄いウェハや脆いワイドバンドギャップ材料にかかる機械的ストレスが軽減され、処理中の破損を抑えることができます。

このシステムは、±0.5 mmの位置決め精度、毎時60枚以上のウェハ処理能力、および99.9%の歩留まりを規定しています。クリーンルーム環境下では、ワークピースとフィルムに粒子状汚染物質が付着していなければ、真空ラミネーションにより気泡のない界面が得られます。ULVAC製真空ポンプ、PLC制御、および10インチのタッチスクリーンが、プロセス監視とパラメータ記録を処理します。

フィルムの送り出し、切断、廃材回収は自動化されています。安全装置にはライトカーテンと緊急停止ボタンが備えられており、イオンファンは静電気の蓄積を抑制するのに役立ちます。STK-7080は、MTBF(平均故障間隔)が500時間以上、MTTR(平均修復時間)が1時間未満、計画停止時間が3%未満という仕様も備えています。

この装置は、設置後、ハードウェアの変更なしに生産を開始できます。確立された生産設計、簡単な部品交換、そして低いメンテナンス要件により、特に柔軟なスケジュール調整と初期設備コストが重要な考慮事項となる小規模から中規模のウェハ処理において、実用的な選択肢となります。

SINTAIKE STK-7080 Wafer Mounter | Non-Contact Vacuum Lamination System

SINTAIKE STK-7080 技術仕様

パラメータ説明
機器の種類非接触式真空ウェハーマウンター
メーカー新田池
テクノロジーローラーレス真空ラミネート
ウェハーサイズ4インチ~8インチウェハー
ウェハー材料シリコン、SiC、GaAs、GaN
ウェーハの厚さ100μm~750μm
フィルムの種類ブルーフィルム/UVフィルム
位置精度約±0.5mm
制御システムタッチスクリーンインターフェースを備えたPLC制御
動作モード半自動

仕様は、機器の構成および顧客のプロセス要件によって異なる場合があります。