บ้าน > สินค้า > อุปกรณ์การผลิตเวเฟอร์ขั้นต้น > อุปกรณ์แปรรูปความร้อน >

ระบบ AG Associates Heatpulse 8108 RTP

เครื่องประมวลผลความร้อนอย่างรวดเร็วสำหรับเวเฟอร์เดี่ยว AG Associates Heatpulse 8108 สำหรับเวเฟอร์ขนาด 150–200 มม. ความผันแปรของอุณหภูมิต่ำ การให้ความร้อนหลายโซน และการควบคุมแบบวงปิด ช่วยให้ได้ผลลัพธ์การอบอ่อนและการออกซิเดชั่นที่ทำซ้ำได้

AG Associates Heatpulse 8108 RTP System ภาพอุปกรณ์
การตรวจสอบการกำหนดค่า รุ่นและตัวเลือกที่ติดตั้ง
อุปกรณ์ใหม่/มือสอง ขึ้นอยู่กับความพร้อมของโครงการ
การจัดส่งทั่วโลก การประเมินตามจุดหมายปลายทาง
เอกสารขอเสนอราคาทางเทคนิค (Technical RFQ) การจับคู่บรรจุภัณฑ์และกระบวนการ

AG Associates Heatpulse 8108 เป็นเครื่องประมวลผลความร้อนอย่างรวดเร็วสำหรับเวเฟอร์เดี่ยวที่มีความหลากหลายและได้รับการยอมรับในด้านประสิทธิภาพการประมวลผลความร้อนอย่างรวดเร็วที่มีความแปรปรวนต่ำ สามารถรองรับขั้นตอนการผลิตหลักๆ ได้แก่ การอบอ่อนด้วยไอออน การสร้างซิลิไซด์ และการออกซิเดชันฟิล์มบาง สำหรับการผลิตเวเฟอร์ขนาด 150 มม. ถึง 200 มม.

อัตราการเพิ่มอุณหภูมิที่รวดเร็วเป็นพิเศษและการควบคุมความร้อนแบบอิสระหลายโซนช่วยให้ได้ความสม่ำเสมอของอุณหภูมิทั่วทั้งแผ่นเวเฟอร์อย่างยอดเยี่ยม การตรวจวัดอุณหภูมิด้วยไพโรมิเตอร์ความแม่นยำสูงควบคู่กับการควบคุมแบบป้อนกลับแบบวงปิดช่วยลดความคลาดเคลื่อนของอุณหภูมิ ทำให้ได้ผลลัพธ์ที่สม่ำเสมอและทำซ้ำได้ในแต่ละแผ่นเวเฟอร์

เครื่องประมวลผลความร้อนที่ได้รับการพิสูจน์แล้วในภาคสนามนี้ มีขนาดกะทัดรัดและใช้งานได้อย่างยืดหยุ่น รองรับการตั้งโปรแกรมสูตรที่กำหนดเองและการจัดการตลับต่อตลับที่มีประสิทธิภาพสูง ความน่าเชื่อถือสูงและอัตราความล้มเหลวต่ำ ทำให้เป็นการอัพเกรดที่คุ้มค่าในการรักษาเสถียรภาพของกระบวนการความร้อนและเพิ่มผลผลิตโดยรวมของโรงงานผลิต

ข้อมูลจำเพาะหลักของ AG Heatpulse 8108

ผู้ผลิตเอจี แอสโซซิเอทส์
กลุ่มผลิตภัณฑ์ฮีทพัลส์
แบบอย่าง8108
ประเภทอุปกรณ์ระบบประมวลผลความร้อนอย่างรวดเร็วสำหรับเวเฟอร์เดี่ยว
ขนาดเวเฟอร์ที่รองรับขนาดสูงสุด 200 มม.; รายการสินค้าที่มีจำหน่ายระบุขนาดเวเฟอร์ 150 มม. และ 200 มม.
วิธีการให้ความร้อนแผงหลอดไฟทังสเตนด้านบนและด้านล่าง
การวัดอุณหภูมิเทอร์โมคัปเปิลหรือไพโรมิเตอร์ ขึ้นอยู่กับการติดตั้ง
การควบคุมอุณหภูมิการควบคุมอุณหภูมิกระบวนการแบบวงปิด
วิธีการทำความเย็นการระบายความร้อนด้วยเครื่องแลกเปลี่ยนความร้อนแบบผนังเย็นในแพลตฟอร์มที่เผยแพร่แล้ว
แอปพลิเคชันกระบวนการที่เผยแพร่แล้วการอบอ่อน การแพร่กระจายที่ควบคุมได้ การออกซิเดชัน การกระตุ้น และการก่อตัวของซิลิไซด์
บรรยากาศกระบวนการขึ้นอยู่กับแผงควบคุมแก๊ส ห้อง และอุปกรณ์เสริมที่ติดตั้งไว้
เงื่อนไขอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์มือสอง
ความพร้อมใช้งานขึ้นอยู่กับสินค้าในสต็อกปัจจุบัน การตรวจสอบ และการยืนยันการกำหนดค่า

AG Heatpulse 8108 rapid thermal process chamber

AG Heatpulse 8108 controller and equipment nameplate

AG Associates Heatpulse 8108 rapid thermal processor