Máy ASML TWINSCAN XT:1250i đã đưa công nghệ in thạch bản ngâm ArF 193 nm vào giai đoạn phát triển ban đầu để tạo hình mẫu dưới 65 nm. Bằng cách đưa nước vào giữa thấu kính chiếu và tấm wafer, hệ thống đã tăng khẩu độ số hiệu dụng vượt quá giới hạn của phương pháp phơi sáng ArF khô, cho phép tạo ra hình ảnh mẫu mịn hơn.
Kiến trúc hai giai đoạn của nó tách biệt quá trình phơi sáng wafer khỏi các tác vụ căn chỉnh và đo lường, cho phép thực hiện các phép đo ở một giai đoạn trong khi giai đoạn kia xử lý việc phơi sáng. Quy trình làm việc song song này giúp duy trì năng suất của máy quét đồng thời kiểm soát tiêu cự và độ chồng lớp trong quá trình xử lý wafer lặp lại.
XT:1250i đóng vai trò quan trọng trong việc đánh giá sớm công nghệ in thạch bản ngâm cho các ứng dụng logic và bộ nhớ. Khả năng tạo ảnh thực tế của nó phụ thuộc vào cấu hình quang học, cài đặt chiếu sáng, lớp chất cản quang và điều kiện quy trình.
