SAMCO AD-230LP 用於開發超薄共形薄膜。 血漿ALD該工具具備試生產和研發能力，支援氧化物和氮化物薄膜的生長，這是製造微機電系統（MEMS）和先進功率半導體結構的關鍵技術。
該系統的獨特之處在於其精細調控的氣體和等離子體脈衝。它實現了原子級厚度控制和卓越的性能。 步驟覆蓋在對複雜的高縱橫比特徵進行塗層處理時，這一點至關重要。
與大型生產集群設備不同，這款緊湊型反應器佔地面積小，同時保持了ALD工藝的全面可調性。快速的腔室清潔和簡單的硬體維護減少了閒置時間，使團隊能夠可靠地試驗新的薄膜配方。
SAMCO AD-230LP 主要規格
| 製造商 | SAMCO |
|---|---|
| 模型 | AD-230LP |
| 設備類型 | 裝載鎖定式等離子體增強原子層沉積系統 |
| 沉積技術 | 等離子體增強原子層沉積 |
| 血漿法 | 已發表平台設計中的電容耦合等離子體 |
| 晶圓裝載 | 裝彈鎖定室 |
| 已出版的電影資料 | AlN、SiN、AlOx 和 SiO2 |
| 薄膜控制 | 透過順序表面反應實現原子層級厚度控制 |
| 主要應用 | 三維結構的絕緣膜、鈍化膜和保形塗層 |
| 狀態 | 二手半導體設備 |
| 可用性 | 視當前庫存、檢驗和配置確認情況而定 |
