SAMCO PD-3800L 是一款緊湊型 PECVD 系統，能夠沉積氮化矽、二氧化矽和氮氧化矽薄膜—這些材料通常用於功率半導體中的表面鈍化和保護層。
穩定的射頻功率控制和最佳化的氣體混合技術確保了晶圓上薄膜的均勻性。腔室設計最大限度地減少了顆粒的產生，從而確保了小批量和中試規模生產中沉積效果的潔淨度。
該工具具備簡單的配方設定、便捷的維護和易於操作的腔室開口，從而提供卓越的工藝靈活性。它非常適合研發實驗室和小型晶圓廠，能夠幫助他們製造可靠的薄膜堆疊結構。
SAMCO PD-3800L 主要規格
| 製造商 | SAMCO |
|---|---|
| 模型 | PD-3800L |
| 設備類型 | 裝載鎖定批量PECVD系統 |
| 沉積技術 | 等離子體增強化學氣相沉積 |
| 最大加工面積 | 載盤直徑約 360 毫米 |
| 已公佈的晶圓負載量 | 根據載託的不同，最多可容納 9 片 3 吋、6 片 4 吋或 3 片 6 吋晶圓。 |
| 已出版的電影資料 | 二氧化矽、氮化矽、氧化矽和非晶矽 |
| 已發布的工藝範例 | SiH4-SiNx、SiH4-SiO2、液態前驅體SiNx和TEOS-SiO2 |
| 晶圓裝載 | 帶托盤式批量處理的裝載鎖室 |
| 控制介面 | 發布平台中的觸控螢幕參數控制和配方存儲 |
| 狀態 | 二手半導體設備 |
| 可用性 | 視當前庫存、載體配置和檢驗確認情況而定 |
