Stepper i-line Canon FPA-3000i4 beroperasi pada panjang gelombang pendedahan 365 nm dan menyokong fotolitografi pada wafer 6 inci dan 8 inci, bergantung pada konfigurasi yang dipasang. Aplikasinya termasuk semikonduktor kuasa, peranti diskret, MEMS dan proses lain di mana litografi i-line yang ditetapkan memenuhi keperluan pencorakan.
Optik unjuran mempunyai apertur berangka 0.63, dengan nisbah pengurangan 1:5 dan medan pendedahan 22 × 22 mm. Penjajaran tindanan menyokong corak berbilang lapisan, manakala resolusi dan daya pemprosesan yang boleh dicapai bergantung pada keadaan proses, sistem rintangan dan konfigurasi wafer.
Bagi fabrikasi yang menilai Canon FPA-3000i4 terpakai, pertimbangan utama termasuk ketepatan peringkat, prestasi penjajaran, keadaan optik, rekod penyelenggaraan dan keserasian dengan peralatan salut dan bangun sedia ada. Alat ganti dan sokongan teknikal perlu disahkan untuk mesin tertentu sebelum pembelian.
Spesifikasi Canon FPA-3000i4
| Pengilang | Kanun |
|---|---|
| Model | FPA-3000i4 |
| Jenis Peralatan | Stepper Litografi i-Line |
| Panjang Gelombang Pendedahan | Talian i-365 nm |
| Resolusi | 0.35 µm |
| Nisbah Pengurangan Unjuran | 5:1 |
| Saiz Wafer | Wafer SEMI 8 inci dengan orientasi rata |
| Pemuat Wafer | JENIS 6-L |
| Saiz Retikel | 6 inci |
| Penukar Retikel | Jenis Standard Canon |
| Jenis Kebuk | CD-80 |
| Keadaan | Peralatan Semikonduktor Terpakai |
| Ketersediaan | Tertakluk kepada stok semasa dan pemeriksaan |
