佳能 Anelva FC7100 PVD 系統可加工鈦、氮化鈦、鋁和其他導電層，滿足分立元件和功率元件製造的金屬化要求。
該系統配備多個濺射靶和高精度晶圓台，可實現優異的薄膜均勻性和階梯覆蓋率。整合的裝載鎖腔可保持真空完整性，最大限度地減少晶圓轉移過程中的顆粒污染，並提高製程重複性。
簡化的腔室維護和便捷的耗材取得有助於控制營運成本。該系統可無縫整合到 150mm/200mm 晶圓製造流程中，提供穩定的金屬沉積，從而確保裝置良率的一致性。
佳能 Anelva FC7100 主要規格
| 製造商 | 佳能阿內爾瓦 |
|---|---|
| 模型 | FC7100 |
| 設備類型 | 簇式PVD濺鍍系統 |
| 支援的晶圓尺寸 | 300毫米/12吋晶圓 |
| 初級過程 | 物理氣相沉積和反應濺射 |
| 主要已發布申請 | 高介電常數金屬閘極薄膜的形成 |
| 最大安裝模組數 | 已發布平台最多可包含五個模組 |
| 可配置模組類型 | 依配置的不同，可進行濺鍍、蝕刻、氧化和加熱等製程。 |
| 系統架構 | 叢集平台 |
| 列明服務年 | 根據可用設備頁面顯示，2011 年 |
| 狀態 | 二手半導體設備 |
| 可用性 | 視當前庫存、模組配置和檢驗確認情況而定 |
