家 > 製品 > 半導体製造装置(バックエンド) > 組立・接着装置 > フリップチップボンダー >

ASMPT AMICRA NANO サブミクロン フリップチップボンダーシステム

位置決め精度±0.2μm(3σ)、接合力0.1~20N、CPH 200~400。シリコンフォトニクス、CPO、ハイブリッドボンディング向けに設計されています。

ASMPT AMICRA NANO Sub-Micron Flip Chip Bonder System 機器画像
構成レビュー モデルと搭載オプション
新品/中古品 プロジェクトの利用状況によります
グローバルデリバリー 目的地別評価
技術RFQ パッケージとプロセスのマッチング

サブミクロンレベルのアライメント精度は、フォトニックチップおよび高密度チップアセンブリの性能を決定づける。 の ASMPT アミクラ ナノ 超精密なフリップチップボンディングを実現し、配置精度は ±0.2µm @ 3σ.

振動を遮断する花崗岩製のベース上に構築されたこの装置は、高解像度の光軸調整と動的オフセット補正機能を統合しています。共晶接合、レーザーはんだ付け、エポキシ樹脂塗布、インサイチュUV硬化など、複数の接合モードに対応しています。内部のHEPAクリーンルームとイオナイザーにより、繊細な光学部品やシリコンフォトニック部品の安定した処理環境を維持します。

モジュール構成により、300mm基板の処理と接合後の検査に対応します。一貫した位置合わせの再現性を維持することで、CPO、シリコンフォトニクス、および直接接合相互接続プロジェクトにおける組立不良を低減します。

ASMPT AMICRA NANO Sub-Micron Flip Chip Bonder System

技術仕様(標準構成)

性能値は、プロセスモジュール、ダイ形状、基板構成によって異なります。

パラメータ典型的な説明
システムタイプ超精密フリップチップおよびダイボンディングプラットフォーム
配置精度±0.5μm~±2μm(3σ)(プロセスおよび構成に依存)
サポートされているプロセス熱圧着接合/マスリフロー/共晶接合
ウェハーサイズのサポート最大8インチまたは12インチ(システムによる)
基板適合性セラミックキャリア、シリコンインターポーザー、積層基板
スループット高精度かつ少量から中量生産向けに最適化されています。