O₂ atau Ar — Setiap Satu Melakukan Kerja Yang Berbeza
Oksigen menyingkirkan sisa organik melalui pengoksidaan kimia. Argon menyingkirkan oksida asli melalui pengeboman ion fizikal. Ia tidak boleh ditukar ganti.
Kami menyimpan pembersih plasma terpakai dari Mac, Diener, Plasma Etch, PVA TePla dan platform lain — vakum kelompok, jalur automatik dan sistem aras wafer untuk pengaktifan permukaan, penyingkiran deskum dan oksida. Mesin yang sesuai dengan rangkaian anda bergantung pada empat perkara: format produk, kimia gas, geometri ruang dan keseragaman rawatan yang diperlukan. Kebanyakan pembelian pembersih plasma terpakai yang tidak kena akan gagal pada salah satu daripada empat perkara ini — model sepadan, mesin tiba, dan kemudian ruang tidak dapat mengendalikan pemuatan bahagian sebenar, atau kimia gas tidak sepadan dengan mekanisme permukaan yang anda perlukan. Beritahu kami keperluan anda dan kami akan menyenarai pendek sistem yang benar-benar berfungsi pada rangkaian anda.
Oksigen menyingkirkan sisa organik melalui pengoksidaan kimia. Argon menyingkirkan oksida asli melalui pengeboman ion fizikal. Ia tidak boleh ditukar ganti.
Kepekatan spesies reaktif beralih dengan jumlah luas permukaan yang dimuatkan. Resipi yang dibangunkan pada kupon tunggal tidak berskala linear kepada kelompok penuh.
Output RF yang sama merentasi ruang kecil menghasilkan interaksi permukaan yang sangat berbeza daripada output yang sama tersebar merentasi ruang yang lebih besar.
Kami pernah melihat pembeli memesan pembersih plasma dengan harapan ia dapat menyelesaikan masalah zarah, kemudian mendapati mesin tersebut dapat menyingkirkan sisa organik tetapi tidak dapat menyentuh zarah tersebut — zarah tersebut masih memerlukan langkah pembersihan basah. Kebanyakan pelanggan mula mencari pembersih plasma selepas masalah ikatan, pembasahan atau lekatan muncul. Cara terpantas untuk mengenal pasti peralatan adalah dengan mengenal pasti produk, keadaan permukaan yang disyaki dan proses seterusnya.
Beritahu kami sama ada bahagian-bahagian tersebut adalah wafer, jalur, rangka plumbum, substrat atau peranti yang dibungkus dan sama ada rawatan diperlukan sebelum pemasangan acuan, ikatan dawai, pengisian bawah, pengacuan atau penyalutan.
Semak pembersihan plasma sebelum melekatkan acuan atau ikatan dawai apabila pencemaran pad, rangka plumbum atau substrat boleh menjejaskan lekatan dan konsistensi proses. Plasma oksigen adalah laluan biasa untuk penyingkiran organik; argon adalah untuk pengurangan oksida pada pad ikatan logam.
Pengaktifan permukaan boleh membantu pengisian yang tidak mencukupi, pelekat atau salutan merebak dengan lebih konsisten apabila pembasahan yang lemah dikaitkan dengan tenaga permukaan atau sisa organik. Kesan pemuatan penting di sini — resipi yang berkesan pada satu bahagian mungkin memerlukan pelarasan untuk kelompok penuh.
Nilaikan rawatan plasma sebelum pengacuan atau enkapsulasi apabila lekatan antara permukaan bungkusan dan bahan pelindung memerlukan penyediaan yang lebih baik. Sahkan bahawa sumber plasma tidak akan merosakkan ikatan dawai yang terdedah atau struktur sensitif.
Untuk proses wafer dan panel, sahkan kepekaan peranti, kaedah pembawa, keseragaman dan sama ada rawatan yang diperlukan serasi dengan platform plasma sebenar. Rawatan tepi dan tengah perlu sepadan — bayangan merupakan masalah biasa dengan ciri nisbah aspek tinggi.
Dua pembersih plasma dengan nama model yang sama boleh mempunyai keupayaan yang sangat berbeza. Saiz ruang yang dipasang, penjana RF, susun atur elektrod, manifold gas dan sistem pengendalian adalah lebih penting daripada nama platform sahaja. Semak inventori semasa, kemudian hantarkan keperluan proses anda kepada kami untuk semakan konfigurasi.
Sistem pembersihan plasma Nordson MARCH AP-600. Unit kelompok atas meja. Rawatan kering untuk substrat semikonduktor, pakej, ...
Sistem plasma RF PVA TePla IoN 200. Mengendalikan wafer 200mm dan substrat besar. Cucian kering menyingkirkan bahan organik dan oksida,...
Sistem pembersihan plasma Nordson MARCH AP-300. Unit kelompok atas meja, RF 13.56 MHz dengan padanan impedans automatik, sehingga 7 pelarasan...
Panasonic PSX307 membersihkan substrat dan wafer dengan plasma plat selari. Ar, O₂, atau gas campuran. Unit pengangkat mengendalikan...
Laluan mesin hendaklah sepadan dengan pembawa produk, jumlah pengeluaran dan rawatan permukaan yang diperlukan. Peralatan dengan spesifikasi plasma yang serupa mungkin masih tidak sesuai jika ruang atau sistem pengendalian tidak dapat menyokong aliran produk sebenar.
Sistem vakum kelompok menyokong produk campuran, pembangunan proses dan pengeluaran isipadu rendah hingga sederhana menggunakan dulang, rak, pembawa, rangka plumbum, pakej atau wafer.
Sahkan: isipadu ruang, susun atur elektrod, lekapan pemuatan, sumber plasma, saluran gas, pam dan kawalan resipi.
Sistem jalur dan magazin automatik direka bentuk untuk pengeluaran bahagian belakang semikonduktor yang boleh diulang di mana pengendalian, kawalan resipi dan kebolehkesanan adalah sebahagian daripada rangkaian.
Sahkan: dimensi jalur, jenis magazin, arah pemindahan, sasaran kitaran, protokol komunikasi dan konfigurasi pemuat/pemuat.
Sistem sebaris boleh merawat substrat atau pemasangan elektronik sebelum proses salutan, pengikatan atau pengeluaran tanpa mengganggu aliran pengeluaran.
Sahkan: dimensi panel, ketinggian penghantar, keseragaman rawatan, kelajuan talian, kelegaan produk dan antara muka huluan/hiliran.
Sistem aras wafer memerlukan kawalan yang lebih ketat terhadap saiz wafer, kaedah pembawa, perlindungan tepi, pendedahan bahagian belakang, keseragaman rawatan dan kepekaan peranti.
Sahkan: saiz wafer atau panel, pembawa, port beban atau kaset, keseragaman proses, mod plasma dan pendedahan ion atau UV yang dibenarkan.
Ruang dan automasi mesti sesuai dengan produk sebenar. Keupayaan plasma sahaja tidak menjamin bahawa mesin boleh mengendalikan jalur, wafer, substrat atau pembawa yang diperlukan.
IC, diskret, kuasa dan pakej sensor.
Lebar jalur, jenis magazin, pic, jarak elektrod, kelegaan produk, arah pemindahan dan masa kitaran.
WLP, pembungkusan lanjutan dan penyediaan permukaan wafer.
Saiz wafer atau panel, pembawa, perlindungan tepi, keseragaman, pendedahan bahagian belakang dan kepekaan peranti.
Persediaan sebelum pengeluaran, pengikatan atau penyalutan.
Dimensi panel, kawasan rawatan, antara muka penghantar, lekapan, kelajuan talian dan proses bahan hiliran.
R&D, kelayakan dan pengeluaran fleksibel.
Reka bentuk rak, pemegang sampel, fleksibiliti resipi, kawalan pencemaran silang, pilihan gas dan akses penyelenggaraan.
Anda tidak memerlukan resipi plasma yang telah siap sebelum meminta mesin. Ulasan yang berguna bermula dengan produk, proses seterusnya dan hasil yang anda perlukan daripada rawatan permukaan.
Kongsikan maklumat yang sedia ada. Kemudian, kita boleh mengenal pasti ruang, laluan gas, sumber plasma, sistem pengendalian dan butiran automasi yang masih memerlukan pengesahan.
Wafer, jalur, rangka plumbum, substrat, panel, pembawa, magazin atau peranti yang dibungkus, termasuk dimensi dan arah pemuatan.
Penyingkiran sisa terpilih, pengurangan oksida, pengaktifan permukaan, pembasahan atau penyediaan yang lebih baik sebelum ikatan, pengisian bawah, pengacuan atau penyalutan.
Kenal pasti logam, polimer, permukaan optik, struktur MEMS atau bahan lain yang terdedah yang mungkin mengehadkan pendedahan ion, haba atau UV.
Kuantiti kelompok, sasaran kitaran, storan resipi, kod bar, pembalakan, SECS/GEM dan keperluan komunikasi sebaris.
Gas proses yang tersedia, bekalan elektrik, udara termampat, penyejukan, ekzos vakum, ruang lantai dan keperluan keselamatan tempatan.
Kami telah melihat pembeli membeli pembersih plasma terpakai berdasarkan nombor model, kemudian mendapati elektrod ruang telah haus atau penjana RF di luar spesifikasi — isu yang lebih mahal daripada penjimatan awal. Model pembersih plasma yang sama mungkin mempunyai ruang, penjana RF, elektrod, manifold gas, pam, perisian dan modul automasi yang berbeza. Sebut harga harus mengenal pasti mesin yang sebenarnya akan dibekalkan.
Sahkan platform yang tepat, tahun pembuatan, maklumat siri dan lokasi semasa.
Kenal pasti saiz ruang, susun atur elektrod, frekuensi RF dan konfigurasi kuasa.
Sahkan saluran gas, kawalan aliran, model pam, susunan pembersihan dan laluan ekzos.
Semak modul pengendalian, perisian resipi, lesen, kod bar, pembalakan dan antara muka kilang.
Periksa haus elektrod, mendapan ruang, sejarah servis pam, pengedap, injap dan skop pengubahsuaian.
Senarai termasuk rak, bot, pembawa, manual, alat ganti, transformer dan keperluan pemasangan.
Soalan-soalan ini membantu memisahkan kategori peralatan, laluan proses dan konfigurasi sebenar sebelum sebut harga disediakan.
Ia mungkin membantu apabila pencemaran organik terpilih, keadaan oksida atau tenaga permukaan yang rendah menjejaskan proses tersebut. Plasma oksigen adalah laluan biasa untuk penyingkiran organik; argon adalah untuk pengurangan oksida pada permukaan logam. Bahan produk, sumber pencemaran dan kaedah pengikatan harus disemak sebelum memilih peralatan atau resipi.
Sistem kelompok memuatkan produk ke dalam ruang menggunakan dulang, rak atau pembawa dan sering dipilih untuk fleksibiliti. Sistem automatik menambah pengendalian jalur, magazin, wafer atau penghantar untuk pengeluaran berulang dan penyepaduan kilang.
Oksigen mengoksidakan pencemaran organik menjadi hasil sampingan yang meruap yang dipam keluar — ini adalah laluan untuk menanggalkan filem organik sebelum menyalut atau mencetak. Argon berfungsi melalui pengeboman ion fizikal dan bukannya kimia, mengurangkan ketebalan oksida asli pada logam — ini adalah laluan untuk menyahoksidakan pad ikatan atau antara muka logam sebelum mengikat. Melayannya sebagai pilihan gas yang boleh ditukar ganti adalah di mana kebanyakan spesifikasi pembersihan plasma menjadi salah.
Tidak. Plasma berkesan untuk banyak sisa organik dan tugas pengaktifan permukaan, tetapi zarah, pencemaran ionik dan mendapan berat mungkin masih memerlukan proses pembersihan basah atau pembersihan mekanikal.
Periksa model, ruang, penjana RF, elektrod, kawalan gas, pam vakum, pemuat, perisian, sejarah proses, kebersihan ruang, rekod penyelenggaraan, lekapan yang disertakan dan keperluan utiliti kilang.
Hantar produk sasaran, dimensi, pencemaran atau objektif permukaan, proses seterusnya, automasi pilihan, laluan gas yang diperlukan, jumlah pengeluaran, keadaan peralatan dan negara destinasi. Nombor model adalah berguna tetapi tidak wajib.
Hantar format produk, objektif permukaan, proses seterusnya dan keperluan kimia gas. Kami akan mengesahkan ketersediaan, keserasian ruang dan kelengkapan konfigurasi dalam masa 4 jam perniagaan.