TEL ALPHA 8S 立式擴散爐可大量處理半導體晶圓，進行熱氧化、退火及擴散等高溫操作。其立式爐體結構允許多個晶圓在受控的製程環境中經歷相同的熱循環。
爐區溫度均勻性、氣體流量控制和晶圓間距都會影響製程一致性。 ALPHA 8S平台提供多種配置，所安裝的爐管、加熱器、氣體輸送系統和控制硬體決定了可用的製程配方。
在選擇二手TEL ALPHA 8S之前，請務必確認特定的製程配置、支援的晶圓尺寸、爐管狀況和瓦斯系統設定。這些細節決定了該設備是否符合所需的氧化、擴散或退火過程。
TEL ALPHA 8S 主要規格
| 製造商 | 東京電子有限公司 |
|---|---|
| 品牌 | 電話 |
| 模型 | ALPHA 8S |
| 設備類型 | 立式批量擴散和熱處理爐 |
| 支援的晶圓尺寸 | 根據現有清單，晶圓尺寸為 150 毫米和 200 毫米。 |
| 晶圓加工 | 批量熱處理 |
| 已公佈的工藝申請 | 濕式氧化、乾式氧化、退火和構型相關的低壓化學氣相沉積 |
| 實際製程配置 | 需確認已安裝的爐管、瓦斯面板、石英器皿和配方 |
| 狀態 | 二手半導體設備 |
| 可用性 | 視當前庫存、檢驗和配置確認情況而定 |
