キヤノンのAnelva FC7100 PVDシステムは、チタン、窒化チタン、アルミニウム、その他の導電層を加工し、個別部品やパワーデバイスの製造における金属化要件を満たします。
複数のスパッタリングターゲットと高精度ウェーハステージを備えた本システムは、優れた薄膜均一性と段差被覆性を実現します。一体型ロードロックチャンバーは真空状態を維持し、ウェーハ搬送中の粒子汚染を最小限に抑え、プロセスの再現性を向上させます。
チャンバーのメンテナンスが簡素化され、消耗品へのアクセスが容易なため、運用コストを抑えることができます。このシステムは150mm/200mmウェハ製造ワークフローにシームレスに統合され、安定した金属蒸着を実現することで、一貫したデバイス歩留まりを保証します。
キヤノン アネルバ FC7100 主な仕様
| メーカー | キャノン・アネルバ |
|---|---|
| モデル | FC7100 |
| 機器の種類 | クラスター型PVDスパッタリングシステム |
| 対応ウェハサイズ | 300mm / 12インチウェハー |
| 主要プロセス | 物理蒸着と反応性スパッタリング |
| 主要な公開アプリケーション | 高誘電率金属ゲート膜の形成 |
| 最大搭載可能モジュール数 | 公開プラットフォームには最大5つのモジュールが含まれます |
| 設定可能なモジュールタイプ | 構成に応じて、スパッタリング、エッチング、酸化、加熱が行われます。 |
| システムアーキテクチャ | クラスタープラットフォーム |
| 記載されているサービス年数 | 2011年、利用可能な機器のページによると |
| 状態 | 中古半導体製造装置 |
| 可用性 | 現在の在庫状況、モジュール構成、検査確認状況によります。 |
