PVA TePla IoN 200 可對半導體基板進行可控制等離子體處理，透過以下方式去除有機殘留物和表面污染物： 低損傷等離子清洗它無需使用苛刻的濕化學方法即可處理晶圓、化合物材料和封裝晶片，是預鍵合和預沉積表面處理步驟的理想選擇。
其緊湊的腔室設計結合可調功率和氣體控制，可確保等離子體在樣品表面均勻分佈。操作人員可快速調整製程參數以適應不同材料，而堅固耐用的硬體則簡化了車間連續運作的維護工作。
PVA TePla IoN 200 機器信息
| 製造商 | PVA熱 |
|---|---|
| 模型 | IoN 200 |
| 設備類型 | 真空射頻等離子體處理系統 |
| 主要應用 | 表面清潔、活化和改性 |
| 處理環境 | 低壓等離子體處理 |
| 典型工件 | 相容的基板、晶圓、電子元件和工業零件 |
| 附加工藝能力 | 根據已安裝的系統配置，PECVD 相關應用 |
| 狀態 | 二手等離子處理設備 |
| 實際配置 | 已根據現有特定係統進行確認 |
| 交貨範圍 | 根據報價和已確認的設備清單 |
| 支援 | 初步故障分析、零件配對和維修討論 |
| 船運 | 出口包裝和全球配送 |
