Ketinggian langkah merupakan ukuran utama dalam pembangunan proses semikonduktor, terutamanya apabila menilai filem yang termendap, ciri-ciri terukir dan perubahan permukaan selepas penyingkiran bahan. KLA Tencor P-2 menangkap jejak permukaan dengan stylus yang menyentuh, membolehkan perbezaan ketinggian dan variasi profil diperiksa di sepanjang laluan imbasan yang ditetapkan.
Profil yang terhasil membantu jurutera membandingkan hasil proses, menyemak langkah ketebalan filem dan menyiasat geometri permukaan pada wafer atau sampel ketepatan lain. Julat pengukuran dan resolusi yang boleh dicapai bergantung pada konfigurasi instrumen dan keadaan ujian.
Spesifikasi Utama KLA Tencor P-2
| Pengilang | KLA-Tencor |
|---|---|
| Model | P-2 |
| Jenis Peralatan | Profil Permukaan Stylus Imbasan Panjang |
| Saiz Sampel Tersenarai | 150 mm / 6 inci |
| Panjang Imbasan Maksimum | Lebih kurang 210 mm |
| Julat Kelajuan Imbasan yang Diterbitkan | Kira-kira 1 µm/s hingga 25 mm/s |
| Julat Menegak Resolusi Tinggi | Lebih kurang ±6.5 µm pada resolusi 1 Å |
| Julat Menegak Lanjutan | Lebih kurang ±150 µm pada resolusi 25 Å |
| Data Profil Maksimum | Sehingga kira-kira 5,000 titik data setiap imbasan |
| Kawasan Pengukuran Boleh Diakses | Diameter sehingga kira-kira 210 mm tanpa penempatan semula sampel |
| Berat Sampel Maksimum | Lebih kurang 2.2 kg |
| Pengukuran Utama | Ketinggian langkah, kekasaran, kealunan dan profil permukaan |
| Keadaan | Peralatan semikonduktor terpakai |
| Ketersediaan | Tertakluk kepada stok semasa, pemeriksaan dan pengesahan konfigurasi |
