PVA TePla IoN 200は、半導体基板に対して制御されたプラズマ処理を行い、有機残留物や表面汚染物質を除去します。 低損傷プラズマ洗浄ウェーハ、複合材料、パッケージ化されたダイを、過酷な湿式化学処理を必要とせずに処理できるため、接合前および成膜前の表面処理工程に最適です。
コンパクトなチャンバー設計に加え、調整可能な出力とガス制御により、試料表面全体に均一なプラズマ分布を実現します。オペレーターは様々な材料に合わせて処理レシピを迅速に調整でき、堅牢なハードウェアによりメンテナンスも容易で、ワークショップでの連続運転もスムーズに行えます。
PVA TePla IoN 200 マシン情報
| メーカー | PVAヒート |
|---|---|
| モデル | IoN 200 |
| 機器の種類 | 真空RFプラズマ処理システム |
| 主な用途 | 表面洗浄、活性化、および改質 |
| 処理環境 | 低圧プラズマ処理 |
| 代表的な加工部品 | 互換性のある基板、ウェハー、電子部品、工業部品 |
| 追加の処理能力 | 設置されたシステム構成に応じたPECVD関連アプリケーション |
| 状態 | 中古プラズマ処理装置 |
| 実際の構成 | 利用可能な特定のシステムに従って確認済み |
| 納品範囲 | 見積もりと確認済みの機器リストに基づく |
| サポート | 初期故障診断、部品の適合確認、修理に関する話し合い |
| 配送 | 輸出梱包および世界各国への配送 |
